A empresa de proteção ambiental Qingyuan de acordo com o processo de produção de pintura, pintura e pulverização industriais, o gás de escape da pintura vem principalmente do processo de pulverização e secagem. Os poluentes emitidos são principalmente: névoa de pintura e solventes orgânicos gerados durante a pulverização de pintura, e solventes orgânicos gerados durante a secagem volátil. A névoa de pintura vem principalmente da parte dispersa de um revestimento à base de solvente em uma operação de pulverização de ar, cuja composição é consistente com a pintura usada. O solvente orgânico vem principalmente do uso de solventes e diluentes no processo de revestimento, a grande maioria das emissões voláteis, seus principais poluentes são metafenilo, benzeno, metafenilo, etc. Portanto, a principal fonte de gases de escape perigosos emitidos na pintura é a sala de pintura, a sala de secagem e a sala de secagem.

Empresa de Proteção AmbientalEquipamento de tratamento de gases de escape,Gestão dos gases de escape da sala de pintura,Gestão de gases de escape de pulverizaçãoUtilização de torres de pulverização e sistemas de tratamento integrados de fotocatálise e plasma a baixa temperatura.

O método de absorção de água (torre de pulverização) é usar as propriedades de certas substâncias em gases de escape orgânicos facilmente solúveis ​​em água, para que os componentes de gases de escape orgânicos entrem em contato direto com a água e, portanto, se dissolvam em água para alcançar o objetivo de remoção. Parte será adicionada a álcalis ativos para tratar alguns gases ácidos e a torre de pulverização pode realizar a remoção de poeira, remoção de neblina, filtro de tinta de tinta de neblina e efeitos de remoção de poeira. Aplicável a emissões orgânicas solúveis em água e organizadas. O processo é simples, fácil de gerenciar, os custos operacionais do equipamento são baixos, mas geram poluição secundária e o líquido de lavagem precisa ser tratado; A eficiência de limpeza é baixa e deve ser usada em conjunto com outras tecnologias para o efeito geral do tratamento de gases de escape orgânicos.

A fotocatálise de oxigênio de fonte limpa é uma atualização do método de oxidação fotoquímica e catalítica, combina a fotoquímica e a oxidação catalítica, o efeito do tratamento é melhor, e não há envenenamento do catalisador e defeitos que não podem ser tratados para os gases de escape complexos dos componentes, e seu custo operacional é menor, porque o papel do catalisador também pode ser realizado em temperaturas médias e baixas, então seu consumo de energia também é menor. O odor do gás VOCS, a eficiência de tratamento de gás como torfenilo, formaldeído e ditafenilo pode atingir mais de 96%. A proteção ambiental de fontes limpas, após muitos anos de pesquisa científica e milhares de casos de análise e comparação, descobriu que a fotocatálise de oxigênio é atualmente um método eficaz e econômico de tratamento de gases de escape, especialmente para a concentração de 100-300 mg / m3 de energia de gases de escape.

O tratamento de plasma de baixa temperatura de fonte limpa é o uso do plasma para gerar partículas ricas e altamente químicamente ativas, como elétrons, íons, radicais livres e moléculas de estado excitado. Os poluentes nos gases de escape reagem com esses grupos ativos de alta energia, transformando-os em substâncias como CO2 e H2O, alcançando o objetivo de purificação dos gases de escape. Ampla gama de aplicações, alta eficiência de limpeza, especialmente aplicável a outros métodos difíceis de lidar com gases de escape orgânicos multicomponentes, equipamento ocupa uma área pequena; Eletrônicos de alta energia, podem atuar com quase todas as moléculas de gases de escape orgânicos; Custos operacionais baixos; Responda rápido, pare _ Rápido, livre de usar. Mas para água, poeira e gases de escape orgânicos explosivos, custos de investimento único elevado.

① Entrar no equipamento de fotocatálise de oxigênio, usando um feixe UV de alta energia de ozônio especialmente fabricado para irradiar os gases de escape, quebrar os gases de escape industriais, tais como: amônia, trimetamina, sulfeto de hidrogênio, hidrogênio metílico, metanol, éter metílico, éster acetato de butílico, éster acetato de etilo, dimetil disulfato, sulfeto de carbono e estireno, sulfeto H2S, classe de VOC, benzeno, torfeno, metafeno, estrutura da cadeia molecular, para que a cadeia molecular de compostos odorosos de polímeros orgânicos ou inorgânicos, sob a irradiação de feixes UV de alta energia, a degradação se transforma em compostos de baixa molécula, como CO2, H2O, etc. O uso de raios UV de alta energia de ozono para decompor as moléculas de oxigênio no ar produz oxigênio livre, ou seja, oxigênio ativo, devido ao desequilíbrio de elétrons positivos e negativos do oxigênio livre, por isso é necessário se ligar às moléculas de oxigênio para produzir ozônio. UV + O2 → O - + O * (oxigênio ativo) O + O2 → O3 (ozônio), é bem conhecido que o ozônio tem um forte efeito oxidativo sobre a matéria orgânica e um efeito imediato sobre os gases de escape industriais e outros odores irritantes. Os gases de escape industriais usam o equipamento de escape para entrar no equipamento de purificação, o equipamento de purificação usa feixes UV ultravioletas de alta energia e ozônio para a reação oxidativa de decomposição sinerógica dos gases de escape industriais, transformando a degradação dos substâncias de gases de escape industriais em compostos de baixa molecularidade, água e dióxido de carbono, e depois eliminados para o exterior através de tubos de escape. O uso de raios C de alta energia para romper as ligações moleculares das bactérias nos gases de escape industriais, destruir o ácido nucleico (DNA) das bactérias e, em seguida, através do ozônio para a reação oxidativa, alcançar o objetivo de purificação e eliminação das bactérias. Considerando a eficiência do ar purificado, escolhemos o dispositivo de alta corrente de corona de combinação de raios UV de banda C e ozônio usando o princípio combinado da tecnologia de adsorção de corona de pulso para eliminar gases perigosos, onde os raios UV de banda C são usados principalmente para remover o sulfeto de hidrogênio, amônia, benzeno, torfenilo, difalfenilo, formaldeído, ácido etílico, etano, acetono, uretano, resina e outros gases de decomposição e fissão, tornando a matéria orgânica compostos inorgânicos.

② Entrar no equipamento de plasma de baixa temperatura, sob o efeito do campo elétrico, a descarga de mídia produz uma grande quantidade de elétrons portáteis bombardeando moléculas de poluentes, ionizando, desligando e estimulando, em seguida, desencadeia uma série de reações físicas e químicas complexas, transformando poluentes macromoleculares complexos em substâncias seguras de moléculas pequenas simples ou transformando substâncias tóxicas e perigosas em substâncias inofensivas ou menos tóxicas, permitindo que os poluentes sejam degradados e removidos.